设备规格:震安-6001半自动晶圆清洗机
设备简介:
* 专用于清洗切割后之晶片(Wafer)或玻璃片表面微尘
* 高速离心脱水,工件表面无水痕残留
* 清洗流程:二流体清洗(可分段设置)-离心干燥
* 采用二流体清洗装置,能有效的提高清洗效果
* 配备除静电离子风系统
* 配备空气过滤系统,使用压缩空气更加洁净
* 整体不锈钢镜面机身坚固耐用,耐酸性、碱性等清洗液
基本参数:
* 清洗盘尺寸:8寸或以下 (采用标准或定制化陶瓷吸盘)
* 清洗方式:二流体清洗
* 干燥方式:高速离心脱水
* 电机较大转数:2840r/min ,设备安全转数设定:100-1800 r/min(可调)
* 压缩空气:0.45~0.7Mpa
* 电阻率:>17 MΩ
* 纯水接入水压:>2.0Kg
* 空气过滤精度:0.01UM
* 可清洗Particle颗料最小直径:0.5um
* 设备材料:整机镜面不锈钢
* 机器净重:100KG
* 控制方式:PLC+触摸屏
* 电源:220V 50HZ(较大功率3KW)
* 机器尺寸:520mm(L) ×640mm(W) × 1600mm(H)